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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司


經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:54條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:瞿經(jīng)理

  • Mini Line 微型器件平臺

    詳細摘要: 為克服器件制造的設(shè)備空間限制,矽碁科技開發(fā)出適合2英寸晶圓的小型半導(dǎo)體制造平臺-MiniLine,配置靈活,占地面積小,運行成本低

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 手動鍍膜系統(tǒng)

    詳細摘要: 手動磁控濺射系統(tǒng)適用于本科生教學(xué),研究生科研訓(xùn)練,也可以應(yīng)用于科研工作

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • OLED CLUSTER鍍膜設(shè)備

    詳細摘要: 有機發(fā)光二極管(OLED)技術(shù)作為一種新興顯示技術(shù),具有器件輕薄、可視角度大、柔性顯示、節(jié)省電能等優(yōu)勢,已廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 磁控濺射(共濺射)

    詳細摘要: 磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 超高真空磁控濺射鍍膜機

    詳細摘要: 矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機采用國際UHV配件及金屬密封件,本底真空可達到10-9~10-10Torr量級

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  • 多工位磁控濺射鍍膜機

    詳細摘要: 多工位磁控濺射鍍膜機可同時放置多片基片,適應(yīng)研發(fā)線或中試線的小批量生產(chǎn)

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  • 電子束蒸發(fā)鍍膜機

    詳細摘要: 對傳統(tǒng)熱蒸發(fā)技術(shù)難以實現(xiàn)的材料蒸發(fā),可采用電子束蒸發(fā)(E-beamEvaporation)的方式來實現(xiàn)

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  • 線性磁控濺射鍍膜機

    詳細摘要: 立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn),設(shè)備由進樣室,濺鍍室,出樣室和基片傳遞機構(gòu)組成,可實現(xiàn)連續(xù)鍍膜,廣泛應(yīng)用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生...

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  • 有機物蒸發(fā)鍍膜機

    詳細摘要: 利用優(yōu)異保溫效果的坩堝實現(xiàn)有機物材料的穩(wěn)定蒸發(fā),同時借助超高精度的石英晶振達到蒸發(fā)速率的確控制,矽碁科技可提供性能穩(wěn)定的有機物蒸發(fā)鍍膜機,主要用于有機物材料驗證...

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  • 熱蒸發(fā)鍍膜機

    詳細摘要: 把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程,稱為真空蒸發(fā)鍍膜,簡稱蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍

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  • 低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)

    詳細摘要: 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積,可進行大面積小批量樣品沉積

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  • 化學(xué)氣相沉積(PECVD)

    詳細摘要: 化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應(yīng)劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程,廣泛應(yīng)用于金屬、氧化物、氮化...

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  • ICP增強化學(xué)氣相沉積(ICP-CVD)

    詳細摘要: 電感耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(ICPChemicalVaporDeposition,ICPVD)利用ICP線圈將反應(yīng)氣體高度離化,是的CVD可以在高溫下...

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  • 量產(chǎn)型原子層沉積

    詳細摘要: 特殊的腔體設(shè)計和工藝設(shè)計,可以使得ALD技術(shù)應(yīng)用于工業(yè)量產(chǎn),并且可以提高鍍膜效率

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HWCVD/HW-PECVD)

    詳細摘要: 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進行薄膜化學(xué)氣相沉積,適...

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  • PEALD&CVD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng)

    詳細摘要: 矽碁科技利用PEALD和PECVD各自鍍膜的特點為用戶開發(fā)了PECVDPEALD聯(lián)合鍍膜系統(tǒng),用于半導(dǎo)體工藝中的薄膜封裝

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 反應(yīng)離子刻蝕(RIE/ICP-RIE)

    詳細摘要: 反應(yīng)離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓,通過產(chǎn)生的等離子體對樣品進行化學(xué)和物理刻蝕

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • CIGS太陽能電池鍍膜

    詳細摘要: CIGS薄膜太陽能電池具有光吸收能力強,發(fā)電穩(wěn)定性好、轉(zhuǎn)化效率高,白天發(fā)電時間長、發(fā)電量高、生產(chǎn)成本低以及能源回收周期短等諸多優(yōu)勢,已成為新型太陽能電池的熱點發(fā)...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

  • 熒光屏

    詳細摘要: 技術(shù)參數(shù):1使用高亮度的P22熒光材料(ZnS/Ag)

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  • 低能電子槍,F(xiàn)RA-2X1-2 / EGPS-1011

    詳細摘要: 技術(shù)參數(shù):1電子槍能量范圍:5eV~1000eV

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-09-05 在線留言

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