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磁控濺射（共濺射）

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磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種

詳細(xì)介紹

磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(Physical Vapor Deposition, PVD)的一種。一般用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等薄膜材料，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、效率高，面積大等優(yōu)點(diǎn)。

磁控濺射原理：通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。


技術(shù)參數(shù)：

1 本底真空：10-7Torr到10-9Torr；

2 單基片設(shè)計(jì)，尺寸可定制，常規(guī)尺寸2-6英寸；

3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/500℃/800℃；

4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍，可共濺射；

5 靶槍角度可調(diào)，濺鍍距離可調(diào)，可升級(jí)強(qiáng)磁靶；

6 可選配多路氣路；

7 防交叉污染隔板設(shè)計(jì)；

8 可配備離子束輔助沉積；

9 可配備樣品預(yù)清洗功能；

10 可配備快速進(jìn)樣室；

11 可配備自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)；

12 全自動(dòng)操作系統(tǒng)；




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