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更新時間:2023-12-18 16:33:12瀏覽次數:128次
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儀器簡介:
AES998配置高能量火花等離子電源系統(tǒng)和業(yè)內高焦距和分辨率的光學系統(tǒng),實現高水平的準確性、重復性、穩(wěn)定性金屬高速檢測。
1、高能量火花等離子電源系統(tǒng)
高能量范圍、高可靠性等離子電源系統(tǒng)釋放高質量電火花。
可精確分析各類基體,對難激發(fā)的鑄鐵、鑄鋁類材料分析有優(yōu)勢。
2、高性能光學系統(tǒng)
業(yè)內高焦距和分辨率的光學系統(tǒng)AES998提供了強大的光譜分析平臺,光譜分析精度高、可靠性強;光學系統(tǒng)穩(wěn)定,校正周期長。
3、激發(fā)臺設計優(yōu)化
采用動態(tài)、靜態(tài)氬氣結合的氬氣氣流設計,確保分析時無需熱機,及時分析樣品;并且待機時低氣流量消耗,節(jié)省氬氣。
優(yōu)化的氬氣吹掃氣流設計有效排出金屬蒸汽,促進電火花穩(wěn)定釋放。
防護門設計有效隔絕噪聲和電磁干擾,防止未放樣品誤激發(fā),為測試人員保駕護航。
4、用戶體驗便捷化
從樣品處理到儀器操作,過程設計簡單易操作,兼職人員可日常操作。
WINLAB軟件系統(tǒng)可視化操作設計,操作和維護功能一目了然,測試人員可快速學習和操作。
5、硬件狀態(tài)監(jiān)控保護
實時監(jiān)控、顯示儀器狀態(tài),超出狀態(tài)范圍時自動保護儀器系統(tǒng)
技術參數
光學系統(tǒng):
1、光學結構:Paschen-Runge結構;
2、光柵焦距:998.8mm;
3、凹面光柵:刻線密度:2160gr/mm,色散率0.47nm/mm(1級);
4、狹縫寬度:入射狹縫:20μm;出射狹縫:35-100μm;
5、光室填充:真空型(真空度≤3Pa)或空氣型、恒溫控制(36±0.1°C);
6、譜線范圍:170-780nm(真空),190-780nm(空氣);
7、最多通道:48個;
8、探測器:Φ13mm、Φ28mm,10級側窗型光電倍增管結合CMOS檢測器;
激發(fā)臺:
1、類型:氬氣沖洗,保護門設計;
2、特殊樣品:可提供小樣品夾具;
火花電源:
1、類型:高能預火花技術(HEPS);
2、軟件:書豪WINLAB軟件,可自動計算、校準、存儲;
3、氬氣:純度大于99.999%;
4、尺寸:長180 mm0 x 寬1050 mm x 高1245 mm;
5、重量:約 500 kg;
6、環(huán)境要求:室溫15-30℃;
7、電源:220V +/- 10%,單相,50/60 Hz,獨立地線;
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