為了提高樣品的成像效果，電子顯微學(xué)領(lǐng)域需要對樣品進(jìn)行鍍膜處理。通過在樣品表面形成金屬導(dǎo)電層，抑制了電荷聚積，降低了熱損傷，并提高了SEM對二次電子信號的檢測能力。TEM觀察了復(fù)型樣品中x射線顯微分析網(wǎng)格上的支撐膜和背底支撐膜，研究了一種既可對電子束透明又能導(dǎo)電的精細(xì)碳膜。鍍膜工藝的具體要求取決于分辨率和應(yīng)用。
掃描電鏡成像前的必要涂層處理。
要求有極差導(dǎo)電或非導(dǎo)電性能的材料樣品(陶瓷、聚合物等)需要碳或金屬涂層。冷凍斷裂樣品經(jīng)金屬鍍膜處理(徠卡EMACE600和徠卡EMVCT500)，低溫掃描電鏡成像。
電子顯微鏡成像前的涂層處理
TEM網(wǎng)格覆蓋著聚醋酸甲基乙烯脂(formvar)，為了獲得導(dǎo)電性能，需要對其進(jìn)行碳鍍膜。采用輝光放電的方法處理網(wǎng)格，否則溶液就不會(huì)粘附和分布。將凍裂樣品用金屬鍍膜后，再用碳素鍍膜(LeicaEMACE600凍裂或徠卡EMACE900)對其進(jìn)行處理，得到可以在TEM中成像的復(fù)型樣品。
濺射式涂層
對SEM進(jìn)行濺射鍍膜是一種將金層(Au)、金/鈀(Au/Pd)、鉑層(Pt)、銀層(Ag)、鉻(Cr)或銥(Ir)等超薄的導(dǎo)電金屬層(不導(dǎo)電或?qū)щ娦圆畹臉悠?鍍膜的工藝。濺射膜可以防止樣品由于靜電場的積累而產(chǎn)生電荷聚集。通過增加SEM樣品表面檢測到的二次電子量，可以有效地提高樣品的信噪比。掃描電鏡用濺射膜一般為2-20納米厚。
掃描電鏡樣品采用金屬濺射膜的優(yōu)點(diǎn)：
降低顯微電子束損傷；
增強(qiáng)導(dǎo)熱。
降低樣品電荷積累(改善導(dǎo)電性能)
改進(jìn)次級電子發(fā)射。
減小電子束的穿透深度，提高邊緣的分辨率。
防止射束靈敏的樣品。
蒸碳
碳熱蒸發(fā)廣泛地應(yīng)用于電子顯微鏡樣品制備。不管是線型的還是棒型的，在一個(gè)真空系統(tǒng)中的兩個(gè)高電流電極之間都安裝一個(gè)碳源。在碳源被加熱到它的蒸發(fā)溫度時(shí)，樣品上會(huì)有一股細(xì)小的碳流動(dòng)。在EM電子顯微鏡中，碳蒸鍍的主要應(yīng)用是X射線顯微分析和(TEM)網(wǎng)格樣品支撐薄膜。
電子束蒸鍍
金屬與碳均可蒸鍍。用電子束蒸鍍法可獲得細(xì)的鍍膜，這是一個(gè)方向很明確的鍍膜工藝，只需很少的范圍。該靶子中的電子會(huì)聚在一起，被加熱并進(jìn)一步蒸發(fā)。將電子束中帶電粒子移除。這樣就可以在樣品表面形成一束極低電流的電子束。熱減少了，樣品上的帶電粒子的影響也減少了。在運(yùn)行了一些時(shí)間之后，電子源需要重新加載和清理。一般而言，當(dāng)必須進(jìn)行定向鍍(投影和復(fù)型)或需要精細(xì)鍍時(shí)，可采用電子束蒸發(fā)。
介紹低溫技術(shù)。
凍裂包括一系列技術(shù)，它們可以揭示和復(fù)制細(xì)胞器和其它膜結(jié)構(gòu)的內(nèi)部成分，并在
進(jìn)口金相顯微鏡下檢查。冰凍蝕刻法是通過升華除去冰，暴露原來隱藏的薄膜表面。
凍干簡稱凍干，在高真空(升華)條件下，可以除去冷凍樣品中的水分。這樣可以得到干燥穩(wěn)定的樣品，并且可以用電子顯微鏡進(jìn)行成像。
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