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FEI Quattro掃描電鏡

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產(chǎn)品型號(hào)Quattro

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地武漢市

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更新時(shí)間:2024-02-26 17:04:55瀏覽次數(shù):105次

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商鋪產(chǎn)品:202條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:王先生

產(chǎn)品簡介

ThermoScientific?Quattro?掃描電鏡將成像和分析的全面性能與的環(huán)境模式(ESEM)相結(jié)合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行

詳細(xì)介紹

Thermo Scientific? Quattro? 掃描電鏡將成像和分析的全面性能與的環(huán)境模式(ESEM)相結(jié)合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。


如今,研究型實(shí)驗(yàn)室普遍要求現(xiàn)代的掃描電鏡可以適應(yīng)多種多樣

的樣品分析需求,希望在獲得出色的圖像質(zhì)量的同時(shí)盡可能簡化

樣品制備過程。Quat t r o 的場發(fā)射槍(FEG)確保了優(yōu)異的分辨

率,通過不同的探測器選項(xiàng),可以調(diào)節(jié)不同襯度信息,包括定向背散

射、STEM 和陰極熒光信息。來自多個(gè)探測器和探測器分區(qū)的圖像可以

同步采集和顯示,使得單次掃描即可獲得各種樣品信息,從而減低束敏

感樣品的束曝光并實(shí)現(xiàn)真正的動(dòng)態(tài)實(shí)驗(yàn)。


Quattro 的三種真空模式(高真空、低真空和 ESEM?)使得系統(tǒng)極

具靈活性,可以容納任何 SEM 可用的泛的樣品類型,包括放

氣或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。此外,ESEM?可以在現(xiàn)實(shí)世界

的條件下對(duì)樣品進(jìn)行原位研究,例如濕/潮濕、熱或反應(yīng)性的環(huán)境。


Quattro 的分析樣品倉可以滿足日益增長的樣品元素信息及晶體結(jié)構(gòu)分

析需求,它同時(shí)支持相對(duì)的雙能譜(EDS)探測器、共面能譜(EDS)/電子

背散射衍射(EBSD)和平行束波譜(WDS)探測器。無論什么類型的樣

品,在高真空下或與 Quattro 支持的實(shí)驗(yàn)條件相結(jié)合,無論樣品導(dǎo)

電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下,均可獲得可靠的分析結(jié)果。


由于多用戶設(shè)施要求大量操作人員都能獲得所有相關(guān)數(shù)據(jù),同時(shí)盡可能

縮短培訓(xùn)時(shí)間,所以易用性是至關(guān)重要的。Quattro 的硬件由幫助功

能(用戶向?qū)В┲С?,不僅可以指導(dǎo)操作者,還可以直接與顯微鏡進(jìn)行交

互。并且通過“撤消(Undo)"功能,鼓勵(lì)新手用戶進(jìn)行實(shí)驗(yàn),而專家用戶

可以輕松縮短結(jié)果獲取時(shí)間。


主要優(yōu)勢

在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究:具有環(huán)境真空模式(ESEM)的高分辨率場發(fā)射掃描電鏡

縮短樣品制備時(shí)間:低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無荷電累積

在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品, 同步獲取二次電子像和背散射電子像

安裝原位冷臺(tái)、珀?duì)柼渑_(tái)和熱臺(tái),可在-165°C 到 1400°C 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析

的分析性能,樣品倉可同時(shí)安裝三個(gè) EDS 探測器,其中兩個(gè) EDS端口分開 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD

針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統(tǒng)"實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD 分析

靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái),105°傾斜角度范圍,可觀察樣品

軟件直觀、簡便易用,并配置用戶向?qū)Ъ?Undo(撤銷)功能,操作步驟更少,分析更快速

全新創(chuàng)新選項(xiàng),包括可伸縮 RGB 陰極熒光(CL)探測器、1100°C 高真空熱臺(tái)和 AutoScript(基于 Python 的腳本工具 API)


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