GMM-450鄭州正置金相顯微鏡的詳細資料
GMM-450正置明暗場金相顯微鏡可用于鑒別和分析各種金屬和合金材料及非金屬物質的組織結構，半導體硅晶片、LCD基板、電路板、固體粉未及其它各種透明或不透明工業(yè)。GMM-450透反射暗場金相顯微鏡廣泛應用于電子，冶金、化工和儀器儀表行業(yè)觀察不透明的物質。如金屬,太陽能板、集成電路、電子芯片、液晶板、鍍涂層，薄膜、粉末及其它非金屬材料，對一些表面狀況進行研究分析的工作等。GMM-450明暗場正置透反射金相顯微鏡系生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子工程學、科研機構、工廠、實驗室等檢驗研究的理想儀器。成像系統(tǒng)簡介：
GMM-450P電腦型明暗場金相顯微鏡GMM-450S數碼型明暗場金相顯微鏡成像系統(tǒng)將通過光電轉換與計算機，數碼相機以及電視機等設備結合在一起，不僅可以在目鏡上觀察，還能在顯示屏幕上觀察實時動態(tài)圖像，還可在計算機，數碼相機上將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。
性能特點：
采用無限遠光學系統(tǒng)及模塊化功能設計。
長工作距離明/暗視場平場物鏡，視場大而清晰。
廣角平場目鏡：視場直徑Ф22mm。
粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，微動格值:2μm。
內置式可切換偏光觀察裝置，起偏器可360°旋轉。
配置落射與透射照明采用“柯勒”照明系統(tǒng)系統(tǒng)，能分別對不透明物體或透明物體進行顯微觀察上光源采用翻蓋式12V50W鹵素燈箱，更換燈炮安全便捷，下光源采用12V30W鹵素燈，加裝散熱片。
三目鏡筒可自由切換目視觀察與顯微攝影觀察，99%通光攝影，適合暗視場顯微圖像拍攝。
防霉：的防霉系統(tǒng)
技術參數：
| 大視野目鏡 | 放大倍數(X) | 視場(mm) |
| WF10X | Φ22 |
無限遠平場
消色差物鏡
（明/暗場物鏡） | 放大倍數（X） | 數值孔徑（NA） | 工作距離（mm） |
| PL L5X | 0.12 | 9.7 |
| PL L10X | 0.25 | 9.3 |
| PL L20X | 0.40 | 7.2 |
| PL L40X | 0.60 | 3.0 |
| 光學放大倍數 | 50X,100X,200X,400X |
| 系統(tǒng)參考放大倍數 | 50X-3000X |
| 目鏡筒 | 三目鏡,傾斜30? 瞳距調節(jié)范圍：53-75mm 99%通光攝影。 |
| 照明系統(tǒng) | 落射照明器，12V/50W鹵素燈，亮度可調.
透射照明： 12V/30W鹵素燈，亮度可調； |
| 偏光裝置 | 推拉式檢偏振器，起偏振器 |
| 調焦機構 | 粗微動同軸調焦,粗動松緊可調,帶鎖緊和限位裝置 微動格值:0.002mm, |
| 轉換器 | 五孔(內向式滾珠內定位) |
| 濾色片組 | 落射：黃色、藍色、綠色、磨砂玻璃 |
| 透射：藍色、磨砂玻璃 |
| 載物臺 | 雙層機械移動式(尺寸:210mmX140mm,移動范圍:75mmX50mm) |
儀器選配件：
分劃目鏡:WF10X
明暗場物鏡： 50X 60X 80X 100X
金相分析軟件：GM—JX2000
金相圖像測量軟件：GM—2000M
QQ:2568841715
