簡單介紹：該設(shè)備用于制備多組份、多層復(fù)合的致密的金屬/非金屬、金屬氧化物/氮化物/氮氧化合物、非金屬氧化物/氮化物/氮氧化合物等厚度均勻的薄膜材料，其中靶材可為金屬/非金屬的單組份或多組份材料（包含磁性靶材材料），也可為金屬/非金屬化合物的單組份或多組份材料。樣品能夠在該設(shè)備系統(tǒng)真空室內(nèi)的薄膜沉積處原位退火處理。此外，采用磁控濺射鍍膜后的樣品可以進(jìn)行硒化、硫化處理?？蓱?yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、微電子、光電子、能源、催化、納米技術(shù)等領(lǐng)域。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

技術(shù)規(guī)格：

本系統(tǒng)由進(jìn)樣室、硫化/硒化室、兩個濺射室（3靶位+4靶位）、濺射控制系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、泵抽系統(tǒng)、樣品傳輸控制系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、水循環(huán)制冷系統(tǒng)、完成樣品制備過程電控系統(tǒng)及電腦/觸摸屏程序控制系統(tǒng)等組成；

系統(tǒng)配置可在真空環(huán)境條件下移動樣品的機(jī)械手臂，實現(xiàn)樣品在腔體之間的移動,樣品在腔室之間傳遞動作完成后15分鐘內(nèi)相關(guān)腔室真空度恢復(fù)到樣品傳遞之前的水平；

兩濺射室可分別實現(xiàn)3靶位和4靶位的靶材共濺射，相互之間電源等系統(tǒng)無相互干擾，各靶材單獨濺射不受其他靶材的影響，且不污染其它靶材；

系統(tǒng)具有完善的自動保護(hù)功能,其中硒化/硫化爐的抽氣入口具有防蒸汽侵蝕保護(hù)措施；

各室結(jié)構(gòu)材料均采用上等不銹鋼材料，氬弧焊接和表面拋光處理。

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，紡織服裝機(jī)械網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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