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Diener 等離子清洗機 Zepto W6

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更新時間：2023-08-30 14:40:48瀏覽次數：226次

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商鋪產品：47條

所在地區(qū)：

聯系人：張經理

產品簡介

技術應用鏈接:特點：低壓等離子系統(tǒng)

詳細介紹

技術應用鏈接:

特點：

· 低壓等離子系統(tǒng)，用于不同材料表面的處理

· 配置自動/手動模式，實現控制高機能

· 6” Wafer去膠清洗

· 適合于研究院、高校、研發(fā)中心使用

· 操作簡單易使用

 

 

技術規(guī)格：

型號

ZEPTO W6

ZEPTO W6 PCCE

控制系統(tǒng)

手動控制

PCCE 控制系統(tǒng)

工藝氣路

雙路氣體

工藝氣體

O2，Ar，N2，CO2，H2，Air等

單體導入

H2O等單體（選配）

流量計

針閥流量計

MFC流量計

真空

腔體

材質

高硼硅玻璃腔體，蓋子門帶觀察窗(石英，鉸鏈門選配)

內尺寸(Dia.×D)mm

160mm×180mm

容積

4L

電極

360度外置環(huán)繞電極

發(fā)生器

 

40KHz     0~100 W

13.56MHz  0~50 W

13.56MHz  0~300 W

真空壓力計

指針式壓力計（選購）

皮拉尼數字式壓力計

計時器

旋鈕式（選購）

數字式

托盤

高硼硅玻璃（石英選配）

外形尺寸（WXDxH）mm

269x324x176(40kHz)

425x450x185(13.56MHz)

電源

AC220V 50Hz 10A

真空泵

排氣速度4m3/H

 

未找到相應參數組，請于后臺屬性模板中添加


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